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介質損耗因數(shù)tanδ現(xiàn)場(±₹₹chǎng)測量的(de)幹擾影(yǐng)響和(hé)消•α&除方法

時(shí)間(jiān):2019-03-19 閱讀(dú): 次 來(lái)源:中谷測控
文(wén)章(zhāng)标題:介質損耗因數(shδ₹¶ù)tanδ現(xiàn)場(chǎng)測量的(de)幹擾影(yǐng)響和(h​ é)消除方法關  鍵 詞:介質損耗因數(shù),介質損耗因數(shù)tanδ,介質損耗因數(shù)tanδ現(xiàn‍¥α)場(chǎng)測量幹擾影(yǐng)響消除方法概      述:本文(wén)主要(yào)介紹了(le)介 ♥質損耗因數(shù)tanδ現(xiàn)場(chǎng≠♣π)測量的(de)幹擾影(yǐng)響和(hé)消除方法。

1、電(diàn)場(chǎng)幹擾

被試設備周圍不(bù)同相(xiàng)位(如(rú) A、B、C三相(xiàn©φ>g))的(de)帶電(diàn)體(tǐ)與被試設備不(bù)同部位間(jiān)存在電(dià‍→∏₽n)容耦合,這(zhè)些(xiē)不(bù)同部位的(de™♣)禍合電(diàn)容電(diàn)流(幹擾電(diàn)流γ₽↔)沿被試品和(hé)電(diàn)橋測量電(diàn)路(lù)(正、反、側接線)→ λ"流過,形成電(diàn)場(chǎng)幹擾,對(duì)現(xiàn)場(chǎng)tan&‍₽¥φdelta;的(de)測量造成誤差。由于被試設備結構不(bù)同,其受電(diàn)場(chǎ≥σΩ™ng)幹擾情況也(yě)不(bù)同。

2、電(diàn)場(chǎng)幹擾影(yǐng)響的±§π(de)消除方法

2.1 屏蔽

在部分(fēn)停電(diàn)的(de)現(xiàn)場(chǎng),對(duì)↑®可(kě)能(néng)受到(dào)鄰近(jìn)帶電(di÷∞àn)物(wù)體(tǐ)電(diàn)場(chǎng)影(yǐng)響的(de♥✔>♦)被試品,特别是(shì)直接與電(di♦ àn)橋連接的(de)暴露的(de)被試品電(diàn±$←)極,在可(kě)能(néng)條件(jiàn×¥©)下(xià)用(yòng)內(nèi)側有(yǒu)∏σ絕緣層的(de)金(jīn)屬罩、鋁箔等加以屏蔽,屏蔽罩(箔)接地(dì) π™¶,以減少(shǎo)電(diàn)場(c£¥hǎng)幹擾的(de)影(yǐng)響。

2.2 選相(xiàng)倒相(xiàng)法

對(duì)于幹擾電(diàn)源和(hé)試驗電(diàn)源同頻(pín)率時(sh'₽‌​í),可(kě)以利用(yòng)選相(xiàng)倒相(xià∑"₽≈ng)法,通(tōng)過計(jì)算(suàn)的(de)方法消除幹←♠β擾電(diàn)流對(duì)被試品從(cóng)高(gāo)₹₽壓端、中間(jiān)電(diàn)容屏或末端電®γ(diàn)容禍合的(de)影(yǐng)響。一(yφ•ī)般情況下(xià),測量時(shí)将電(diàn)源正、反倒相(xiàng)各測一(yī)'™次即可(kě),若作(zuò)反接線測量,≤£且測得(de)的(de)tanδ≥15%時(shí),應将電(diàn)源另選♦Ω↑​一(yī)相(xiàng)測試,使tanδ≤15%為(δ‍↑wèi)止。

當tanδ﹤10%時(shí)♦"λ,實際tanδx可(kě)簡略地(dì)按下(xià)式計(jì)算(suàn):

        tanδx=(R32tanδ1-R31tanδ2)/(R31-R32)

        Cx=(CnR4/2)×[(R32+R31)/(R31R32)]

式中:

        tanδ1、tanδ2——倒相(xiàng)前的(dδ​Ω↓e)tanδ;

      &nbπ₩≠sp; R31、R32——倒相(xiàng)前後的(dλ♣₩e)R3值。

應用(yòng)選相(xiàng)倒相(xiàng)法所 →$>引起的(de)誤差在一(yī)般高(gāo)壓電(diàn)橋允許的(​ ≥de)誤差範圍內(nèi)。

2.3 幹擾平衡法

2.3.1 原理(lǐ)

當幹擾源特别強,利用(yòng)特制(zhì)的(de)可(kě)調電(diàn)源加到(d"₹ào)橋體(tǐ)上(shàng),可(kě)以消除幹擾對(duì)電(d♦πiàn)橋平衡和(hé)對(duì)測量的(de)影(yǐng)響。

圖1-1為(wèi)以反接線為(wèi)例在R3臂上(shàng)加反幹擾源測量tanδ的(∏πde)原理(lǐ)圖。

R3臂加反幹擾源原理(lǐ)圖
圖1-1 R3臂加反幹擾源原理(lǐ)圖

在西(xī)林(lín)電(diàn)橋的(de)R3臂并接一(yī)個(gè)特制(zhì)可(kě'✘¥)調的(de)電(diàn)源(反幹擾電(diàn)源, ‍ ∑電(diàn)動勢Es,內(nèi)阻Zs),首先,|Zs|>>|R3|,反幹擾源的(de)并接,不(bù)影(yǐng)響幹擾電(diàn)流Ig、Ig3、Ig4的(de)分(fēn)布。又(yòu)因為(wèi)有(yǒu)1/ωCx>>R3,1/ωCn>>|Z4|,所以反幹擾源電(diàn)流Is主要(yào)是(shì)流過R3和(hé)Z4臂,即:

      &nbs$₽ p; Is=Is3+Is4

如(rú)果電(diàn)橋R3及R4臂正好(hǎo)置于試品真實tan&delt‍✔£$a;對(duì)應位置,調節Es,使之滿足:

       ∑↕; Is3+Is4=0

則(Is3+Ig3)R3=△UBE=0

因而 Is4+Ig4=0

這(zhè)就(jiù)表示流過檢流計(jì)的(de)幹擾電(dià↕Ωα↑n)流Ig4與反幹擾電(diàn)Is4之和(hé)為(wèi)零,電(diàn)橋處于平衡☆≤。這(zhè)時(shí)再加試驗電(diàn)壓,電(dià≤&±n)橋仍能(néng)處于平衡,即能(néng)得(de)到(dào)較準÷≈‌确的(de)tanδ值。

2.3.2 操作(zuò)步驟

a) 按常規的(de)tanδ測量方法接好(hǎo)線(不(bù)加試驗電(di≤₽¥àn)源),将反幹擾電(diàn)源的(de)兩個(gè)輸出端分(fēn)别接入電(α<π♥diàn)橋的(de)Cx端和(hé)E端(或者是(shì)Cn端和(hé)E端,或者是(shì)Cx端和(hé)Cn端)。

b) 将電(diàn)橋的(de)R3調整在估計(jì)的(de)測量值位置上(shàng)(例如(rú),試>×品電(diàn)容為(wèi)100pF左右時(shí)可(kě)将R3調整在大(dà)約為(wèi)1500&Om₹₩ega;的(de)位置上(shàng)),Rα₽>Ω3預調得(de)越準确,一(yī)般一(yī)次調整反幹擾電(diàn ≈∑)源裝置,即可(kě)一(yī)次平衡成功,測試數(shù)據準确。

c) 合上(shàng)電(diàn)橋檢流計(jì)電(diàn)源,将≥←♣®檢流計(jì)靈敏度放(fàng)在适當位置,觀察因電(diàσ'≤★n)場(chǎng)幹擾造成的(de)檢流計(jì✘♠δ)指示值,以不(bù)超過2/3刻度為(wèi)宜。

d) 合上(shàng)反幹擾裝置的(de)電(diàn)源,先調整反幹擾裝置輸出的(de)反∑φ​幹擾電(diàn)流“幅值”≤≈↕,後調整其相(xiàng)位,使檢流計(j±★♦ì)在靈敏度最大(dà)時(shí),指示最小(xiǎo)為(wèi)止。

e) 固定反幹擾電(diàn)源裝置的(de)“幅$¥™♥度”和(hé)“ ✘•相(xiàng)位”,将檢流計(jì)調至零位,然後合上(≠∑∞βshàng)試驗電(diàn)源,按常規試驗方法進行(xíng)tan&d™♠εelta;測量的(de)平衡操作(zuò)。

f) 将試驗電(diàn)壓降到(dào)零,反幹擾裝置×←的(de)“幅值”與“相(xiàng)位&r€↓←☆dquo;保持不(bù)變,将靈敏度調至最大(dà)位置。若檢 →₩≠流計(jì)指示很(hěn)小(xiǎo),所測數(shù)據即為(wèi)正确值。

g) 若測試數(shù)據要(yào)求相(xiàng)當精确∏£<>時(shí),可(kě)重複d)、e)兩項操作(zuò)或進行(xíng)電(™≈diàn)源正、反相(xiàng)測量。

2.4 移相(xiàng)法

電(diàn)橋采用(yòng)移相(xiàng)電(di✔↓•♦àn)源,如(rú)圖1-2所示。由于幹擾電(diàn)流£€☆★I'的(de)相(xiàng)位在該被試設備的∏≠≥(de)位置是(shì)不(bù)變的(de),所以調節電($®∏αdiàn)橋電(diàn)源電(diàn§‌)壓U的(de)相(xiàng)位,Ix的(de)相(xiàng)位便相(xiàng)應的(de)變化(huà), ∑π于是(shì)可(kě)以改變I'和(hé)I≈‍x的(de)夾角。當調節移相(xiàng)器(qì)使它們的(de)夾角為(wπ←èi)零的(de)時(shí)候,上(shà↔®ng)述δ'即等于δ,見(jiàn•≠ε)圖1-3。設在開(kāi)關K的(de)正、反兩種不(bù)同位置下(xγδ§ià)将電(diàn)橋調節到(dào)平衡,所得(de)電(diàn)橋讀(dú)數(s<↕‌hù)為(wèi)C4、R'3和(hé)C4、R"3,則被試品介質損失角為(wèi):

       ‌ ; tanδ=ωC4R4

電(diàn)橋的(de)兩次電(diàn)容測量值為(wèi):

     ≥→©ε;   C'x=Cn(R4/R'3)×[(1/(1+tan2δ)]≈Cn(R4/R'3)

        C"x=Cn(R4/R"3)×[(1/(1+tan2δ)]≈Cn(R4/R"3)

它們分(fēn)别正比于I'cx和(hé)I"cx

用(yòng)移相(xiàng)電(diàn)源消除幹擾
圖1-2 用(yòng)移相(xiàng)電(diàn)源消€£₽除幹擾
用(yòng)移相(xiàng)電(diàn)源時(shí)的(de)電(diàn)流相(xiàng)量圖
圖1-3 用(yòng)移相(xiàng)電(di↕ ¥àn)源時(shí)的(de)電(diàn)流相(xiàng)量圖

被試品的(de)實際電(diàn)容值(正比于Icx)為(wèi):Cx=(C'x+C"x)/2≈(CnR4/2)[1/R'3+1/R"3]。

找出相(xiàng)應于夾角為(wèi)零的(de)‌€移相(xiàng)器(qì)位置的(de)方法如(rú)下(π™☆σxià):在圖1-2中将B與D短(duǎn•¶δ)接,并将R3放(fàng)在最大(dà),此時(shí)幹擾電φβ↕$(diàn)流I'及由電(diàn)源供給的(de)被試品電(diàn)流I ∞x均流過檢流計(jì)G,它們的(de)路(lù)徑由圖中虛₹β線箭頭所示。調節移相(xiàng)電(dià±'n)源的(de)相(xiàng)角和(hé​→")電(diàn)壓幅值,使檢流計(jì)指示為(w'∑¶èi)最小(xiǎo),此時(shí)即表示上(sh™¥☆àng)述夾角接近(jìn)零。斷開(kāi)電(diàn)源,保持移相(xiàng)電(‍∞∏πdiàn)源相(xiàng)位,拆除BD短(duǎn)路(lù),正式開™‍(kāi)始測量,将電(diàn)壓升至所需電(dià↓±€≈n)壓,若K在正、反位置下(xià)的(de↔←π★)tanδ值相(xiàng)等即說(sh≤​  uō)明(míng)移相(xiàng)效果良好(hǎo)。

用(yòng)移相(xiàng)法測試操作(zuò)比較複雜(zá)。

2.5 異頻(pín)法

通(tōng)過改變試驗電(diàn)源的(de)頻(pín)£≥★λ率為(wèi)47.5Hz和(hé)52.5Hz(或45Hz和(hé)5‍≈®™5Hz),利用(yòng)高(gāo)壓電(diàn)橋原理₩λ↓ (lǐ),并運用(yòng)離(lí)散付裡(lǐ)葉變換等算(suàn)法,★÷将50Hz幹擾信号從(cóng)測試信号中分(fēn)離(lí)。

2.6 其他(tā)

有(yǒu)利用(yòng)光(guāng)纖傳遞信号,隔離(lí)高(gāo)壓,抗外(wà≈<€i)電(diàn)場(chǎng)幹擾等其他(tā)方法。

3、磁場(chǎng)幹擾

當電(diàn)橋靠近(jìn)電(diàn)抗器(qì¥π)等漏磁通(tōng)較大(dà)的(de)設備時(shí)可(kě)能(néng)會(★±huì)受到(dào)磁場(chǎng)幹擾。通(tōng)常,這(zhè)一(y✘₹©ī)幹擾主要(yào)是(shì)由于磁場(chǎng)作(zuò)用(yòng✔♣™≠)于電(diàn)橋回路(lù)所引起。為(wèi)了(le)消除幹擾的(‍Ω<♥de)影(yǐng)響,一(yī)般可(kě)将電(d∏‍iàn)橋移動位置(約數(shù)米),即可(kě)移到≤β¶(dào)磁場(chǎng)幹擾較小(xiǎo)或影(yǐng)響範圍以外(wài)。♦&∏≠若不(bù)可(kě)能(néng),則也(yě)可(kě)以在檢流計(jì)極性轉♠∑&'換開(kāi)關處于兩種不(bù)同位置時(shí)将電(diàn)橋平衡,求•δ∞得(de)每次平衡時(shí)的(de)試品介質損失角及電(diàn)容值。然後再求取兩次的♥₩>‌(de)平均值來(lái)消除磁場(chǎng)幹擾的(d∞"$§e)影(yǐng)響。

4、其他(tā)影(yǐng)響因素

4.1 其他(tā)影(yǐng)響因素有(yǒu):

(a) 電(diàn)橋配套的(de)标準電(diàn)容器(qì)BR-1✘π✔♣6絕緣受潮;

(b) 電(diàn)橋接線插座的(de)屏蔽不(bù)良;

(c) 被試品與電(diàn)橋的(de)連接電(diàn)纜(屏蔽線)長(cháng¥‌)度超過10m;

(d) 被試物(wù)電(diàn)極的(de)絕緣電(diàn)阻和(hé)雜(zá)散π₽≥電(diàn)容。

4.2 消除方法

高(gāo)壓電(diàn)橋和(hé)ZC-221抗幹擾介質損耗測試儀應定期校(xiào)驗,試驗時(shí)保證接線完好(hǎo),不(bù)受潮;被試↕↔¶>物(wù)周圍的(de)雜(zá)物(wù)應予清除。

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